RD-603高效硬鉻
RD-603高效硬鉻
產(chǎn)品特點(diǎn)
詳情介紹
603硬鉻添加劑
一.產(chǎn)品特點(diǎn)
陰極電流效率較高,電流密度范圍寬,沉積速快??稍谳^高電流密度下操作。
對(duì)陰極無腐蝕,鍍硬度高。
鍍層光亮,平滑細(xì)致,厚度均勻?qū)樱铄冃约选?/p>
鍍液穩(wěn)定,易操作,維護(hù)方便。單一開缸及補(bǔ)充,使用極為方便。
二.溶液組成及操作條件
參數(shù) |
消耗量 |
鉻酐 |
200-300g/L |
硫酸 |
1.8-2.5g/L |
三價(jià)鉻 |
1.0-3.0g/L |
603硬鉻添加劑 |
8-20ml/L |
溫度 |
50-62℃ |
陽極面積﹕陰極面積 |
2-3﹕1 |
電流密度 |
40-90A/d㎡ |
陽極材料 |
鉛錫合金 |
三.設(shè)備要求
1.鍍槽:采用PVC(聚氯乙稀)塑膠材料的槽子。
2.抽風(fēng)裝置:必需備有抽風(fēng)裝置,以防有鉻霧逸出。
3.整流機(jī):可提供6-15伏電壓,而波紋率少于5%。
4.陽極:鉛錫合金(含鉛93%、錫7%)陽極。陽極應(yīng)有足面積以負(fù)荷電流,避免過熱。如長(zhǎng)時(shí)間不產(chǎn)生時(shí),需把陽極取出,并擦洗干凈。
5.溫度控制:需裝備有溫控器,加熱采用石英或鐵氟龍加熱管。
四.開缸方法
1.注入開缸量之60-70%的去離子水,加熱至45℃。
2.在強(qiáng)力攪拌下慢慢加入鉻酐,攪拌使其充分溶解,加水標(biāo)準(zhǔn)液位。
3.分析硫酸至標(biāo)準(zhǔn)含量,控制在范圍內(nèi) 。
4.加入計(jì)量的RD-603硬鉻添加劑。
5.掛好陽極,添加好鉻防霧劑后,以大面積陰極用6V電壓于操作溫度下電解3-12小時(shí),將溫度控制至工藝范圍,即可試鍍。
五.生產(chǎn)維護(hù)
RD-603硬鉻添加劑在鍍鉻中起到提高鍍液分散能力作用,每使用100Kg鉻酐需添加RD-603硬鉻添加劑約4.5-8升。
六.各組成份功能
鉻酐
鉻酐為主要成份,含量高則導(dǎo)電率會(huì)高,但陰極電流下降,不足則高電流區(qū)易燒焦。
三價(jià)鉻
新配的鍍液經(jīng)過電解后有三價(jià)鉻產(chǎn)生,進(jìn)行電解時(shí)陰極上產(chǎn)生三價(jià)鉻,而陽極則將其氧化成六價(jià)鉻,以達(dá)至平衡,三價(jià)鉻含量一般為0.5-3g/L。
三價(jià)鉻過低時(shí),沉積速度慢,鍍層較軟,鍍液均鍍能力差,可通過大陰極面積電解以提高其含量,三價(jià)鉻過高則鍍層光亮范圍縮小,導(dǎo)電率下降,可用小陰極面積電解以降低其含量。
硫酸
鍍鉻液中要有適量的硫酸才能可使六價(jià)鉻還原成金屬鉻。
過高比列則會(huì)減少鍍層沉積速度和光澤度,鍍層邊會(huì)出現(xiàn)黑色條紋及棕色鉻渣。
過低比例雖可提高鍍層光澤度,但卻使陰極電流效率,沉積速度和深鍍能力降低,且易起鉻漬。
硫酸過高可加碳酸鋇沉淀以除去,一般為2g碳酸鋇可沉淀1g硫酸。
603硬鉻添加劑
含量過低,走位偏差。含量嚴(yán)重過量,鍍層易起漬。平常補(bǔ)加鉻酐時(shí)按比例進(jìn)行補(bǔ)充,一般不需要額外補(bǔ)加。
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