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電鍍添加劑

RD-603高效硬鉻



RD-603高效硬鉻

產(chǎn)品特點(diǎn)

603硬鉻添加劑?一.產(chǎn)品特點(diǎn)陰極電流效率較高,電流密度范圍寬,沉積速快。可在較高電流密度下操作。對(duì)陰極無腐蝕,鍍硬度高。鍍層光亮,平滑細(xì)致,厚度均勻?qū)?,深鍍性佳。鍍液穩(wěn)定,易操作,維護(hù)方便。單一開缸及補(bǔ)充,使用極為方便。?二.溶液組成及操作條件參數(shù)消耗量鉻酐200-300g/L硫酸1.8-2.5g/L三價(jià)鉻1.0-3.0g/L603硬鉻添加劑8-20ml/L溫度50-62℃陽極面積﹕陰極面積2-3﹕1電流密度40-90A/d㎡陽極材料鉛錫合金?三.設(shè)備要求1.鍍槽:采用PVC(聚氯乙?。┧苣z材料的槽子。2.抽風(fēng)裝置:必需備有抽風(fēng)裝置,以防有鉻霧逸出。3.整流機(jī):可提供6-15伏電壓,而波紋率少于5%。4.陽極:鉛錫合金(含鉛93%、錫7%)陽極。陽極應(yīng)有足面積以負(fù)荷電流,避免過熱。如長(zhǎng)時(shí)間不產(chǎn)生時(shí),需把陽極取出,并擦洗干凈。5.溫度控制:需裝備有溫控器,加熱采用石英或鐵氟龍加熱管。?四.開缸方法1.注入開缸量之60-70%的去離子水,加熱至45℃。2.在強(qiáng)力攪拌下慢慢加入鉻酐,攪拌使其充分溶解,加水標(biāo)準(zhǔn)液位。3.分析硫酸至標(biāo)準(zhǔn)含量,控制在范圍內(nèi)。4.加入計(jì)量的RD-603硬鉻添加劑。5.掛好陽極,添加好鉻防霧劑后,以大面積陰極用6V電壓于操作溫度下電解3-12小時(shí),將溫度控制至工藝范圍,即可試鍍。?五.生產(chǎn)維護(hù)RD-603硬鉻添加劑在鍍鉻中起到提高鍍液分散能力作用,每使用100Kg鉻酐需添加RD-603硬鉻添加劑約4.5-8升。?六.各組成份功能鉻酐鉻酐為主要成份,含量高則導(dǎo)電率會(huì)高,但陰極電流下降,不足則高電流區(qū)易燒焦。三價(jià)鉻新配的鍍液經(jīng)過電解后有三價(jià)鉻產(chǎn)生,進(jìn)行電解時(shí)陰極上產(chǎn)生三價(jià)鉻,而陽極則將其氧化成六價(jià)鉻,以達(dá)至平衡,三價(jià)鉻含量一般為0.5-3g/L。三價(jià)鉻過低時(shí),沉積速度慢,鍍層較軟,鍍液均鍍能力差,可通過大陰極面積電解以提高其含量,三價(jià)鉻過高則鍍層光亮范圍縮小,導(dǎo)電率下降,可用小陰極面積電解以降低其含量。硫酸鍍鉻液中要有適量的硫酸才能可使六價(jià)鉻還原成金屬鉻。過高比列則會(huì)減少鍍層沉積速度和光澤度,鍍層邊會(huì)出現(xiàn)黑色條紋及棕色鉻渣。過低比例雖可提高鍍層光澤度,但卻使陰極電流效率,沉積速度和深鍍能力降低,且易起鉻漬。硫酸過高可加碳酸鋇沉淀以除去,一般為2g碳酸鋇可沉淀1g硫酸。603硬鉻添加劑含量過低,走位偏差。含量嚴(yán)重過量,鍍層易起漬。平常補(bǔ)加鉻酐時(shí)按比例進(jìn)行補(bǔ)充,一般不需要額外補(bǔ)加。

詳情介紹


603硬鉻添加劑

 

一.產(chǎn)品特點(diǎn)

陰極電流效率較高,電流密度范圍寬,沉積速快??稍谳^高電流密度下操作。

對(duì)陰極無腐蝕,鍍硬度高。

鍍層光亮,平滑細(xì)致,厚度均勻?qū)樱铄冃约选?/p>

鍍液穩(wěn)定,易操作,維護(hù)方便。單一開缸及補(bǔ)充,使用極為方便。

 

二.溶液組成及操作條件

參數(shù)

消耗量

鉻酐

200-300g/L

硫酸

1.8-2.5g/L

三價(jià)鉻

1.0-3.0g/L

603硬鉻添加劑

8-20ml/L

溫度

50-62℃

陽極面積﹕陰極面積

2-3﹕1

電流密度

40-90A/d㎡

陽極材料

鉛錫合金

 

三.設(shè)備要求

1.鍍槽:采用PVC(聚氯乙稀)塑膠材料的槽子。

2.抽風(fēng)裝置:必需備有抽風(fēng)裝置,以防有鉻霧逸出。

3.整流機(jī):可提供6-15伏電壓,而波紋率少于5%。

4.陽極:鉛錫合金(含鉛93%、錫7%)陽極。陽極應(yīng)有足面積以負(fù)荷電流,避免過熱。如長(zhǎng)時(shí)間不產(chǎn)生時(shí),需把陽極取出,并擦洗干凈。

5.溫度控制:需裝備有溫控器,加熱采用石英或鐵氟龍加熱管。

 

四.開缸方法

1.注入開缸量之60-70%的去離子水,加熱至45℃。

2.在強(qiáng)力攪拌下慢慢加入鉻酐,攪拌使其充分溶解,加水標(biāo)準(zhǔn)液位。

3.分析硫酸至標(biāo)準(zhǔn)含量,控制在范圍內(nèi) 。

4.加入計(jì)量的RD-603硬鉻添加劑。

5.掛好陽極,添加好鉻防霧劑后,以大面積陰極用6V電壓于操作溫度下電解3-12小時(shí),將溫度控制至工藝范圍,即可試鍍。

 

五.生產(chǎn)維護(hù)

RD-603硬鉻添加劑在鍍鉻中起到提高鍍液分散能力作用,每使用100Kg鉻酐需添加RD-603硬鉻添加劑約4.5-8升。

 

六.各組成份功能

鉻酐

鉻酐為主要成份,含量高則導(dǎo)電率會(huì)高,但陰極電流下降,不足則高電流區(qū)易燒焦。

三價(jià)鉻

新配的鍍液經(jīng)過電解后有三價(jià)鉻產(chǎn)生,進(jìn)行電解時(shí)陰極上產(chǎn)生三價(jià)鉻,而陽極則將其氧化成六價(jià)鉻,以達(dá)至平衡,三價(jià)鉻含量一般為0.5-3g/L。

三價(jià)鉻過低時(shí),沉積速度慢,鍍層較軟,鍍液均鍍能力差,可通過大陰極面積電解以提高其含量,三價(jià)鉻過高則鍍層光亮范圍縮小,導(dǎo)電率下降,可用小陰極面積電解以降低其含量。

硫酸

鍍鉻液中要有適量的硫酸才能可使六價(jià)鉻還原成金屬鉻。

過高比列則會(huì)減少鍍層沉積速度和光澤度,鍍層邊會(huì)出現(xiàn)黑色條紋及棕色鉻渣。

過低比例雖可提高鍍層光澤度,但卻使陰極電流效率,沉積速度和深鍍能力降低,且易起鉻漬。

硫酸過高可加碳酸鋇沉淀以除去,一般為2g碳酸鋇可沉淀1g硫酸。

603硬鉻添加劑

含量過低,走位偏差。含量嚴(yán)重過量,鍍層易起漬。平常補(bǔ)加鉻酐時(shí)按比例進(jìn)行補(bǔ)充,一般不需要額外補(bǔ)加。

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